主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种、�br/> 需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材� 基片与靶材同在真空腔中、�br/> 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜� 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜、�/span>

1、建筑五金：卫浴五金（如水龙头）、门锁、门拉手、卫浴、五金合叶、家具等�
2、制表业：可用于表壳、表带的镀膜、水晶制品�
3、其它小五金：皮革五金、不锈钢餐具、眼镜框、刀具、模具等、�br/> 4、大型工件：汽车轮毂、不锈钢板、招牌、雕塑等�
5、不锈钢管和板（各种类型表面）�
6、家具、灯具、宾馆用具�
7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装饰膜、�/span>

主要分类有两个大种类� 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等� �
一、对于蒸发镀膜：
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来�
厚度均匀性主要取决于９�/strong>
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；
2、基片表面温度；
3、蒸发功率，速率�
4、真空度�
5、镀膜时间，厚度大小�
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好�
晶向均匀性：
1、晶格匹配度�
2、基片温度；
3、蒸发速率�
二、溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一�
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般、�/span>