VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸?英寸,样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间?-120s之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点;若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达?英寸。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用、/p>
产品型号 |
VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪 |
主要特点 |
1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计、/p> 2、体积小巧,操作简单,容易上手、/p> 3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属、/p> |
技术参?/strong> |
1、输入电源:220V AC 50/60Hz 2、功率:200W 3、输出电压:500 VDC 4、溅射电流:0-50 mA可调 5、溅射时间:0-120S可调 6、溅射腔佒/p> 1)采用石英腔体,尺寸?66 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2)密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈 7、溅射头&样品?/p> l)溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚?.1 - 2.5mm 2)溅射时?-120S可调 3)仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距?0-80mm可调、/p> 4)可选购加热型样品台,其最高加热温度为500ℂ/p> 5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅尃/p> 6)最大可制膜的直径为:4英寸(仅供参考,详情请点击)    
8、真空系绞/p> l)安装有KF25真空接口 2)数字真空压力表(Pa(/p> 3)此系统可通入气体运行 4( 1.0E-2 Torr (采用机械泵(/p> 5( 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵(/p> 9、进氓/p> l)设备上?/4英寸进气口,方便连接气瓶 2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气?/p> 10、靶杏/p> l)靶材尺寸要求:50mm(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2)设备标配为铜靶 11、产品外型尺寷/p> L460 mm W 330 mm H 540 mm 
净重:20 kg(不包括泵) |
可逈/strong> |
1、可在本公司选购各种靶材 对于溅射各种金属靶材,需要摸索最理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考)
靶材种类 |
真空度(Pa(/p> |
溅射电流(mA(/p> |
时间 (s(/p> |
溅射次数 |
Au |
31-33 |
28-30 |
100 |
1 |
Ag |
31 |
28 |
100 |
1 |
2、可在本公司选购各种真空泴/p> 
3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上   
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质量认证 |
CE认证 |
质保朞/strong> |
一年保修,终身技术支持、/p> 特别提示?.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内、/p> 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内、/p> |
使用提示 |
l、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膛/p> 2、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 3、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表靡/p> 4、超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,?)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分、/p> 5、等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物、/p> 6、制造一个薄的缓冲层?纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力、/p> 7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射 8、溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射 9、由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机、/p>
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| 超声波清洗机 |
等离子清洗机 |
大功率磁控溅射仪 |
蒸发镀膜仪 |
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警告 |
注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体、/p> 气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用、/p> 溅射头连接到高电压、/p> 为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头、/p> |