一�?strong style="box-sizing: border-box; margin: 0px;">PDC-MG等离子清洗机产品概述９�/span>

铭恒等离子清洗机PDC-MG配备有各种数字式仪表，能更加精确的记录各个实验参数。该款设备操作更为简便，只需�?一个开关键即可对整个清洗过程进行控制。该型号等离子清洗机具备更为高的射频功率，使得等离子清洗的应用面更为宽广，除普通的清洗功能外，还具备表面改性、键合、浅刻蚀等功能、�/span>

通过国家辐射环境管理监测站检验，符合国家相关产品标准要求、�br/>

二�?strong style="box-sizing: border-box; margin: 0px;">PDC-MG等离子清洗机技术参数：

1、型号规格：PDC－MG：�/span>

2、整机规格：500×300×300（长×宽×高）mm：�/span>

3、整机重量：30 Kg：�/span>

4、反应舱规格：�?65×L210 mm (耐热玻璃)：�/span>

5、反应舱有效容积�?.5 L：�/span>

6、输入电源：220V�?0Hz：�/span>

7、整机输入功率：400 W：�/span>

8、射频功率：0�?50Ｗ（连续可调）；

9、射频频率：13.56 MHz：�/span>

10、极限真空度�?0 Pa：�/span>

11、数字式定时器范围：0-99.99 min：�/span>

12、数字式电流表和数字式电压表：方便判断工作中的功率大小；

13、二路浮子流量计� 0.2�?.5 L／min 量程，方便二种气体按比例混合：�/span>

14、玻璃观察窗：观察清洗舱内辉光的状态；

15、常用工作气体：空气、氩气、氨气或混合气体等；

三�?strong style="box-sizing: border-box; margin: 0px;">PDC-MG等离子清洗机主要应用９�/span>

1、高分子材料表面修饰、�/span>

2、清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片、�/span>

3、移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质、�/span>

4、清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石、�/span>

5、清洗半导体元件、印刷线路板、�/span>

6、清洗生物芯片、微流控芯片、�/span>

7、清洗沉积凝胶的基片、�/span>

8、清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片、�/span>

9、牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌、�/span>

10、改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力、�/span>