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二氧化硅(SiO2)蚀刻剂Silox Vapox III
产品名称
Silox Vapox III
产品介绍
SILOX VAPOX III
蚀刻剂
? 这一蚀刻剂用来蚀刻硅表面上的沉积氧化物。这些氧化物生长于LPCVD装置。它们和热生长氧化物在很多重要方面极不相同。一方面是它们的蚀刻速度，另一方面是它们的工艺程序。沉积氧化物经常在镀金属的硅基板上用作一个钝化层。Silox Vapox III蚀刻剂设计用来蚀刻镀铝硅板上作为钝化层的沉积氧化物，效果**。这种蚀刻剂液中饱含着铝，从而将其对镀金的基板的浸蚀性降到最低限度、/div>
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沉积氧化物（Silox Vapox）的蚀刻速率?000
?/分，22 °C＋/div>
? 这一产品中含有：
氟化铴/div>
冰醋酷/div>
铝腐蚀抑制剁/div>
表面活性剂
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