钯蚀刻剂TFP 钯蚀刻剂TFP用于在阴æžæº…é•€ã€è’¸å‘和化å¦æ²‰ç§¯è†œä¸Šåˆ»åˆ¶é«˜åˆ†è¾¨çŽ‡å›¾æ¡ˆã€‚这些膜通常用作硅片é•å’Œé‡‘膜体系的阻挡层。 性质 | æ“作 | 外观 | æ·±ç¥ç€è‰²æ°´æº¶æ¶² | ç½ | 玻璃/Pyrex/PVC | PH | ＜1 | 温度 | 40-60℃ | 闪点 | ä¸å¯ç‡ƒ | 蚀刻速率 | 110 Å /秒，50℃ | è´®å˜ | 室温 | 冲洗 | æ°´ | 有效期 | 1å¹´ | 匹é…性 |
| 毒性 | 酸 | 光刻胶 | 阴性和阳性光刻胶 |
|
| 金属膜 | 金/é•-金 |
钯蚀刻剂1：1 钯蚀刻剂1：1Aå’ŒB适于蚀刻钯金属薄膜，钯蚀刻剂1：1是一个两组分体系，在使用å‰ä¸¤ç»„分è¦è¿›è¡Œç‰é‡æ··åˆï¼Œå’ŒåŒ…括光刻胶在内的广范围æ料都能匹é…使用。蚀刻速率为ä¸ç‰é€ŸçŽ‡ã€‚ å«æ°°æ料需è¦ä½œç‰¹æ®Šå¤„ç† é“‚èš€åˆ»å‰‚1：1 铂蚀刻剂1：1Aå’ŒB适åˆç”¨æ¥èš€åˆ»é“‚金属薄膜，铂蚀刻剂1：1是一ç§ä¸¤ç»„分体系。在使用å‰ä¸¤ç»„分必须进行ç‰é‡æ··åˆã€‚和包括光刻胶在内的广范围æ料具有良好匹é…性。蚀刻速率ä¸ç‰ã€‚ å«æ°°æ料需è¦ä½œç‰¹æ®Šå¤„ç†ã€‚ | 
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