产品名称

TFMS-LD反射光谱薄膜测厚�?/p>

产品型号

TFMS-LD

测量膜厚范围

15nm-50um

光谱波长

400 nm - 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度

氧化�?/p>

氮化�?/p>

光刻胵�/p>

半导体（硅，单晶硅，多晶硅等（�/p>

半导体化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）

硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）

聚合物涂�?聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

金属膛�/p>

特点

测量和数据分析同时进行，可测量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膛�/p>

包含�?00多种材料的光学常数，新材料参数也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA筈�/p>

体积较小，方便摆放和操作

可测量薄膜厚度，材料光学常数和表面粗糙度

使用电脑操作，界面中点击，即可进行测量和分析

精度

0.01nm�?.01%

准确�?/strong>

0.2%�?nm

稳定�?/strong>

0.02nm�?.02%

光斑尺寸

标准3mm,可以小至3um

要求样品大小

大于1mm

分光�?检测器

400 - 1100 nm 波长范围

光谱分辨玆� < 1 nm

电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

5W的钨卤素�?/p>

色温�?800K

使用寿命:1000小时

反射探针

光学纤维探针�?00um纤维�?/p>

配有分光仪和光源支架

载样�?/strong>

测量时用于放置测量的样品

通讯接口

USB接口，方便与电脑对接

TFCompanion软件

强大的数据库包含�?00多种材料的光学常数（n：折射率，K：消失系数）

误差分析和模拟系统，保证在不同环境下对样品测量的准确�?/p>

可分析简单和复杂的膜糺�/p>

设备尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg