产品详细介绍９/strong>小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统，主要?英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚，通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳?更新日期2019.1.10（/p>
产品型号 |
小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW |
| 安装条件 |
本设备要求在海拔1000m以下，温?5?#177;15℃，湿度55%Rh10%Rh下使用、/p> 1、水：需要（可选配我公司冷水机）、/p> 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯?9.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀（/p> 4、工作台：尺?00mm600mm700mm?承重50kg以上 5、通风装置：需?/p> |
产品特点 |
1、可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚，达到粉体表面均匀包覆 2、设备小巧可在手套箱内使用，可处理样敏感性材斘/p> |
技术参?/strong> |
1、输入电压：220 VAC 50/60Hz 2、电源输凹1600 VDC 250 W 3、最大电流：150 mA . 4、溅射头?英寸角度可调节溅射头 5、振动样品台９/p> 样品台振动频率可调节?-33Hz 样品台直径为50mm 建议样品野 < 500 mg 建议颗粒尺寸: 1 1000um 石英腔体尺寸?65 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度９/p> ?.0E-2 Torr（采用机械泵），可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶最大真空度可达? 4.0E-6 Torr（分子泵系统抽时?2小时，腔体进行烘烤） 7、CE认证 |
产品规格 |
外形尺寸：长460?30?10mm 净重：20Kg |
注意事项 |
警告９/p> 1、溅射头与高压电源相连接，操作时必须佩带防护手套 2、溅射前必须确保靶材，溅射头，基片和样品台清洁，需要用砂纸和乙醇来清洗，Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理 注意：粉末样品必须干燥和分散 |
