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真空下降炈/div>
真空下降炉图?></a></div>    <span style=
型号: 晶体生长
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型号: 晶体生长
设备产地: 国产设备
产品介绍

产品特点 9/span>

1、升降系统采用伺服电机、高减速比行星减速机和精密线性模组驱动,可以实现超低速运行和大范围的无极调速,此系统具有很高的平稳性、可靠性;电机声音及振动极小、转速稳定且可监控、/span>

2、加热系统采用欧陆表和高精度直流电源(精度为±1‰)控温,控温精度最高可达?.1℃;加热元件和保温体系有金属和石墨两种选择,适合不同需求的晶体生长环境、/span>

3、本系列设备具有断水、漏气、限位等报警及相应处理,使用安全,不须人实时监控,可长时间连续使用、/span>

4、本系列设备可根据用户需求设计炉膛大小和内部分布尺寸,并可进行高、中、低档的灵活配置、即可采用触摸屏全自动控制也可采用全手动和控温表程序控温生长;本设备还可配置独立的水冷循环系统,适合学校和研究机构使用、/span>

主要用 9/span>

晶体生长,可在真空、常压、高压、保护性气氛状态下用于非金属、金属、合金等物质的晶体生长、/span>

产品技术参 9/span>

升降速度 1-200mm/天;5-1000mm/天;50-10000mm/?/span> 规格尺寸 2英寸?英寸?英寸、非栆/span>
最高温?/span> 1300℃?700℃?900℃?200ℂ/span> 控温精度 ±2℃、?℃、?.1ℂ/span>
压升玆/span> 0.33Pa/h?.67Pa/h?.3Pa/h?Pa/h 压力
极限真空 6.7×10-3Pa 1×10-3Pa 5×10-4Pa 2×10-4Pa


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