说明
金薄膜蚀刻剂在光刻法制作微电å线路ä¸ç”¨ä»¥é€‰æ‹©èš€åˆ»é‡‘。和光刻技术相结åˆè¿™äº›èš€åˆ»å‰‚å¯åœ¨æ°§åŒ–é“或其他基æ¿ä¸Šçš„薄膜上制作精密电æžå’Œç”µé˜»å›¾æ¡ˆã€‚å…¶çº¯åº¦é«˜é’ å«é‡ä½Žï¼Œ0.2微米过滤，å¯ç”¨äºŽåŠå¯¼ä½“和微型电å产å“。
金蚀刻剂TFA，ä¸å«æ°°åŒ–ç‰©ï¼Œç”¨äºŽåˆ¶ä½œæ ‡å‡†äº§å“
金蚀刻剂GE-8148，ä¸å«æ°°åŒ–物，ä¸æµ¸èš€é•è†œ
| TFA | GE-8148 |
æ“作温度 | 室温 | 室温 |
通风 | 建议用通风橱 | 建议用通风橱 |
æ…æ‹Œ | æ…æ‹Œå¯åŠ 快蚀刻速率 | æ…æ‹Œå¯åŠ 快蚀刻速率 |
ç½ | 玻璃 | 玻璃 |
蚀刻速率，25℃ | 28 Š/秒 | 50 Š/秒 |
ç»„æˆ | 液体ä¸å«KI-I2络åˆç‰© | 液体ä¸å«KI-I2络åˆç£·é…¸ç›åŒ–åˆç‰© |
PH（20℃） |
| 8.15±0.2 |
密度（20℃） |
| 1.265±0.01 |
蚀刻能力（g/åŠ ä»‘ï¼‰ | 100 | 100 |
光刻胶相匹é…性 | 阴，阳光刻胶 | 阴，阳光刻胶 |
冲洗 | 蒸溜水，去离åæ°´ | 蒸溜水，去离åæ°´ |
åºŸæ¶²å¤„ç† | æŒ‰å›½å®¶æœ‰å…³è§„å®šå¤„ç† |
æ‚质最大å«é‡ | (ppm) |
é’ ï¼ˆNa） | 40 |
氯和溴（CL） | 100 |
é“…(Pb) | 5 |
é“(Fe) | 3 |
ç¡«(作为硫酸ç›) | 50 |
磷(作为磷酸ç›) | 10 |
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