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真空下降炈/div>
产品介绍
产品特点 9/span> 1、升降系统采用伺服电机、高减速比行星减速机和精密线性模组驱动,可以实现超低速运行和大范围的无极调速,此系统具有很高的平稳性、可靠性;电机声音及振动极小、转速稳定且可监控、/span> 2、加热系统采用欧陆表和高精度直流电源(精度为±1‰)控温,控温精度最高可达?.1℃;加热元件和保温体系有金属和石墨两种选择,适合不同需求的晶体生长环境、/span> 3、本系列设备具有断水、漏气、限位等报警及相应处理,使用安全,不须人实时监控,可长时间连续使用、/span> 4、本系列设备可根据用户需求设计炉膛大小和内部分布尺寸,并可进行高、中、低档的灵活配置、即可采用触摸屏全自动控制也可采用全手动和控温表程序控温生长;本设备还可配置独立的水冷循环系统,适合学校和研究机构使用、/span> 主要用 9/span> 晶体生长,可在真空、常压、高压、保护性气氛状态下用于非金属、金属、合金等物质的晶体生长、/span> 产品技术参 9/span>
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