镍蚀刻剂 TFG是适用于蚀刻电沉积镍薄膜的高纯蚀刻剂。镍蚀刻剂TFG与铜、砷化镓以及其他Ⅲ－Ⅴ化合物相匹配。这种蚀刻剂与阳性和阴性光刻胶都有良好的匹配性。它用于氧化铝基板上，是金、镍、镍铬或铬电阻的理想蚀刻剂。

镍蚀刻剂 TFG是高纯硝酸盐基蚀刻剂用于蚀刻蒸发或电镀镍膜，镍蚀刻剂与阴、阳性光刻胶材料都具有良好匹配性。镍蚀剂用于蚀刻金、镍、镍铬膜以制作电阻板。镍蚀刻剂TFG与铜相匹配。

特点：

·廉价经济

·与阳性、阴性光刻胶都相匹配

·线条轮廓清晰

·蚀刻速率均匀

性质：

蚀刻剂	TFG
操作温度	40℃
蚀刻速率	50 ? /秒
镍沉积法	化学镀/电镀
蚀刻能力	-
典型膜厚	-
罐	玻璃/塑料